當7nm芯片制程成為主流、航空發(fā)動機葉片曲面公差要求趨近0.001mm時，深圳中圖儀器股份有限公司研發(fā)的高精度納米級三坐標測量機（CMM）已從單純的質(zhì)量檢測設備，升級為決定工藝穩(wěn)定性、產(chǎn)品良率的核心支撐。作為國內(nèi)擁有幾何量精密儀器核心技術(shù)的企業(yè)，中圖儀器憑借近20年研發(fā)積累，構(gòu)建起從納米到百米的精準測量能力。

一、納米級概念

納米級高精度三坐標測量機（Nano?CMM）是面向微納尺度工業(yè)檢測的計量平臺。它能夠在?1?nm?級別實現(xiàn)三維定位與尺寸測量。行業(yè)通用評價標準中，納米級三坐標測量機主要滿足兩項核心指標：一是示值誤差小于等于0.5μm，二是重復測量精度≤0.3μm，部分機型可實現(xiàn)0.1nm的垂直分辨率。

二、關(guān)鍵技術(shù)

納米級精度的實現(xiàn)，是以非接觸式探頭為核心，融合機械精度、環(huán)境補償、數(shù)據(jù)處理的系統(tǒng)工程。其中，非接觸式探頭技術(shù)的成熟，直接破解了傳統(tǒng)接觸式測量的三大痛點：劃傷脆弱工件（如光刻膠晶圓）、測量效率低下（單點位測量耗時＞1s）、無法適配復雜曲面（如航空發(fā)動機葉片）。

1. 納米級精度運動平臺

解決傳統(tǒng)線性導軌熱漂移、振動導致?µm?級誤差痛點。采用陶瓷導軌+空氣軸承、雙閉環(huán)壓電驅(qū)動，保障微結(jié)構(gòu)測量的可靠性，實現(xiàn)<30?nm?重復定位誤差?，從而降低返工率。

2.非接觸式探頭平衡精度與效率

解決軟材料、微孔、光學表面易受接觸式探頭劃傷測量痛點。它能實現(xiàn)無損檢測、快速點云采集測量，從而提高生產(chǎn)線的效率。

3.高精度誤差補償算法

解決機械誤差、溫濕度變化導致測量偏差痛點。實時環(huán)境監(jiān)測同時多點標定模型，在恒溫恒濕實驗室外都能保持納米級可靠性，非常適合現(xiàn)場檢測場景。

三、應用案例

1.光學元件質(zhì)量控制：在光學鏡頭生產(chǎn)線上，使用納米三坐標進行非接觸式輪廓掃描，測量誤差保持在?0.2?µm?以內(nèi)，實現(xiàn)?<?5?%?的檢測時間縮短?。

2.MEMS與微機電系統(tǒng)：通過 5?軸同步掃描，對微型齒輪的深寬比?12:1?結(jié)構(gòu)完成全尺寸三維評估。

3.航空航天葉片復雜自由曲面、葉盤密集陣列測量：CMM在航發(fā)葉片檢測中，高精度掃描測頭和轉(zhuǎn)臺智能協(xié)同運動，結(jié)合專用分析軟件PowerBlade全面評價參數(shù)。

4.汽車檢具快速校準：在汽車檢具關(guān)鍵尺寸及形位公差測量中，采用MarsClassic 8156 CMM配置測頭加長桿和更換加進行全局尺寸測量，測量周期從?30?分鐘降至?8?分鐘，檢具校準誤差 小于等于10?µm?。

五、行業(yè)洞察與展望

納米級三坐標測量技術(shù)的發(fā)展，正從精度轉(zhuǎn)向場景化解決方案。未來，隨著3nm及以下半導體制程、氫燃料電池極板等新型精密制造場景的出現(xiàn)，測量技術(shù)將向動態(tài)測量、融合測量方向演進。通過精準的技術(shù)指標、產(chǎn)品型號以及落地的行業(yè)案例，企業(yè)可以在提升產(chǎn)品可靠性的同時，實現(xiàn)生產(chǎn)效率的提升。